由 dawei 近日，ASML新一代EUV（极紫外）光刻机TWINSCAN NXE:3600D的研发进展曝光，正在美国康涅狄格州的实验室进行最后部分的安装。
相较于前一代产品，该机型生产力将提高15%～20%，套刻精度提高30%。光刻机是半导体制造的核心设备，大量工艺围绕其展开，因此有关光刻机的消息，特别是EUV光刻机的消息，往往会引起人们的大量关注。然而，7纳米及以下先进工艺只是半导体制造需求的一部分，市场对成熟工艺的需求量更大。此外，随着先进封装技术的发展，半导体后道工艺应用到光刻的环节也在增加。
应用于这些领域的光刻机供应商范围更大，不仅是荷兰ASML，日本佳能和尼康等都有相应的产品线。要想发展光刻产业，不应仅仅盯着最先进的一点，而是要先将整个产业做实做厚。